Plast Puts-GS - смесь для шпаклевки серого цвета стартовая армированная предназначена для внутренних и наружных отделочных работ. Толщина слоя от 1,5 до 6 мм. Расход: ≈ 1,35 кг/м² на 1 мм слоя.
Штукатурка-обрызг цементная, для обработки основания перед нанесением штукатурного слоя. Внутри и снаружи помещений. Ручное и машинное нанесение. Слой: 4 мм. Расход: 1,6 кг/м2/мм.
Для стартового оштукатуривание минеральных поверхностей внутри и снаружи помещений. Паропроницаемая. Трещинностойкая. Ручное и машинное нанесение. Слой: 10-20мм. Расход: 1,6 кг/1 м2 на 1 мм слоя;
Для РУЧНОГО выравнивания стен, потолков минеральных оснований Внутри и Снаружи помещений. Эффективен во влажных помещениях. СЛОЙ: до 30 мм. Расход: 1,6кг/м2/1мм слоя.
Штукатурка цементная Siltek P-11 применяется для выравнивания стен и потолков перед отделкой: шпаклевкой, нанесением декор. штукатурки, теплоизоляцией. Слой: до 30 мм. Расход: 1,5 кг/м2/1мм слоя.
Для Ручного и Машинного оштукатуривания минеральных поверхностей Внутри (повышенная влажность) и Снаружи помещений. Высокая адгезия к ячеистому бетону Слой: до 20 мм. Расход: 1,4-1,5 кг/м2/1 мм слоя.
Для черновой подготовки и выравнивания минеральных оснований – кирпича, бетона и т.п. Для внутренних и внешних работ. Ручное нанесение. Слой: 3-5 мм. Расход: 1,5 кг/м2/мм.
Штукатурка на основе цемента для выравнивания поверхностей из бетона, газобетона, кирпичной кладки. Применяется для ремонта цементных штукатурок. Для наружных и внутренних работ. Расход: 1,4-1,6 кг/м2/мм.
Для стартового нанесения для получения армированных обрызгов в качестве основания под штукатурку (с проволочной сеткой) Внутри и снаружи помещений. Ручное и Механическое нанесение. Расход: 9 кг/м2.
Для основного оштукатуривания минеральных оснований Внутри и Снаружи помещений. Слой 5-30мм. Паропроницаемая. Ручное нанесение. Расход: 1,6 кг/м2/1мм слоя.
Для ремонта трещин и стартового оштукатуривания минеральных оснований Внутри и Снаружи помещений. Машинное (рекомендуеться) и Ручное нанесение. Слой: 5-20 мм. Расход: 1,4 кг/м2/1мм слоя.